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1.什么是PDS固態(tài)源?

在微電子行業(yè)中，對(duì)硅片進(jìn)行擴(kuò)散需要用到硼或者磷源。離子注入是8“及以上尺寸硅片最常用的方式，液態(tài)或者氣態(tài)源則廣泛用在均勻性要求不高的工藝中。而固態(tài)擴(kuò)散源是一種高要求擴(kuò)散的優(yōu)良的解決方案。圣戈班從上世紀(jì)70年代開始開發(fā)固態(tài)源工藝，目前提供全方位的產(chǎn)品和技術(shù)支持。PDSR是Planar Diffusion Sources (平面擴(kuò)散源)的商標(biāo)。

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2.為什么要用PDS固態(tài)源？

首先是均勻性良好，一般使用者反饋片內(nèi)和片間均勻性可以控制到1%~2%。且成品缺陷程度低。其次是PDS固態(tài)源無毒無害，相較于液態(tài)或者氣態(tài)源，PDS的設(shè)備毒害防護(hù)要求很低。從液態(tài)或者氣態(tài)源改造為固態(tài)源僅需要修改氣路，添置專用石英舟等簡(jiǎn)單改造即可使用。 使用固態(tài)源產(chǎn)生的參雜劑封閉在硅片周圍，不會(huì)附著在設(shè)備管道或者門上，易于設(shè)備清理和維護(hù)?？梢院?jiǎn)單通過擴(kuò)散溫度，時(shí)間和氣流來控制需要的目標(biāo)產(chǎn)品，不連續(xù)生產(chǎn)的時(shí)候也方便取出和保存。通過工藝中間的膜厚測(cè)量可以預(yù)判生產(chǎn)品質(zhì)。跟離子注入相比，固態(tài)源一次擴(kuò)散一個(gè)舟可以擴(kuò)散25片，效率很高。

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http:///ceramic/product/abrasive-grains

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